二氧化铈抛光介质制备通过鉴定

本文摘要：由江苏工业学院和江苏省陶瓷研究所有限公司联合分担的江苏省高新技术项目“纳米二氧化铈打磨介质的制取研究”，上周通过了江苏省教育厅主持人的成果鉴定。检验*指出，该技术为国内首创。该项目由江苏工业学院陈志刚院长主持人。 他们使用六亚甲基四胺（HMT）为沉淀剂的皆互为沉淀法制取出有了粒径为10～20nm的球形CeO2打磨介质，粉体颗粒尺寸均匀分布；使用尿素为沉淀剂的皆互为沉淀法制取出有了100～300nm单集中球形CeO2，尺寸皆一、高效率。

由江苏工业学院和江苏省陶瓷研究所有限公司联合分担的江苏省高新技术项目“纳米二氧化铈打磨介质的制取研究”，上周通过了江苏省教育厅主持人的成果鉴定。检验*指出，该技术为国内首创。该项目由江苏工业学院陈志刚院长主持人。

他们使用六亚甲基四胺（HMT）为沉淀剂的皆互为沉淀法制取出有了粒径为10～20nm的球形CeO2打磨介质，粉体颗粒尺寸均匀分布；使用尿素为沉淀剂的皆互为沉淀法制取出有了100～300nm单集中球形CeO2，尺寸皆一、高效率。项目研究了醇水反应体系下成像电磁辐射以及微波电磁辐射等对CeO2粉体形核生长的影响规律，构建了粉体尺寸和形貌构成的可控性，具备创新性。据报，研究人员使用所研制的CeO2打磨介质对硅晶片和砷化镓晶片打磨，表面粗糙度分别为Ra≤0.089nm和Ra≤0.740nm，符合了超强平滑加工的拒绝，在符合超强平滑打磨的同时可提升打磨效率。

应用于试验结果表明，该技术能明显降低硅晶片表面粗糙度，为集成电路基片超强平滑加工获取了关键技术。

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